第一九六章 浸没式光刻技术 (1/1)

“这么成熟的193n有！”

星空科技总公司的研发部里，研发部所有的人员都到场了，刘言站在一个临时搭建的讲台上激动地说道。

“我们都是知道，浸没式光刻技术需要在光刻投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片上的光刻胶之间充满高折射率的液体，就像这个图。”刘言敲了敲大字幕，上面投影仪投射出一幅示意图。

示意图中，显示着传统光刻和浸没式光刻的对比。

其实没什么区别，唯一区别就是光刻胶和投影物镜之间的空间变成了液体。

“根据瑞利衍射原理，我们可以算出193nm浸没式光刻机的分辨率，从结果可以看得出来，浸没式光刻的特征尺寸缩小为传统光刻的n分之一，相当于有效曝光波长缩小为原来的n分之一。”

“而这项技术上面我们有的主要问题，就是浸没液体，液体浸没方式，大数据孔径……”

刘言在上面讲得慷慨激昂，但是乐远却听得有些昏昏欲睡，因为这些东西都是老生常谈了。

193nm浸没式光刻技术不是刘言他们发明的，也不是星空公司自己发明的，早在2002年的时候浸没式光刻技术就帮助突破了65nm技术节点。

而在2004年年底的时候ib浸没是光刻技术制造出全功能的芯片。

所以说，星空公司沉浸式光刻技术只不过比较成熟，在各方面的问题上处理地比较好而已。

刘言一开始提到了ad比较相像。